このX線用加熱・せん断装置は、試料を任意の温度に加熱し、回転によるせん断応力を加えた状態で広角X線散乱WAXS測定で分子の配向挙動を調べることができます。
装置には平行に置かれた2枚のカプトン板があり、その間に試料をはさんで、下側の板がサーボモーターの駆動で、低速から高速までの任意の回転速度で回ります。